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熱陰極直流等離子體化學...
熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備(DCCVD)是在常規冷陰極輝光放電基礎上發展起來的,主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積...
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卷對卷PECVD石墨烯...
卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕,超輕、柔性的太陽能電池,以及新型的發光設備和其他薄膜電子產...
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PECVD-R?旋轉等...
本產品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環境下連續...
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PE-HPCVD等離子...
PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區管式爐,一套鎢絲蒸發源,一套等離子發生裝置以及一套質量流量計組成。...
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PECVD鍍膜儀
CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應...
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單溫區旋轉PECVD石...
單溫區旋轉PECVD,安裝有真空自動投料器,爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料,可以以額定的速率...
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卷對卷式PECVD
卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備(PECVD),并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線材的連續化熱處理工藝中...
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