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单靶磁控光纤绕丝溅射...单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪，专用于光纤制备薄膜,采用不锈钢高真空腔体，配有带挡板的观察窗，可以观察镀膜过程，挡板则能有效防止观察窗被膜层遮蔽，便于实验的观察记录。腔体上顶开式设计开启方便，易于清理，十分适合实验室使用。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手
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台式紧凑型三靶磁控溅...CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统，主要用于多层氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性价比*高的镀膜机 . 直流磁控溅射选项可根据要求提供金属薄膜沉积，实现三个直流、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置
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双靶直流磁控溅射镀膜...双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备
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单靶直流磁控溅射镀膜...单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等
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热丝化学气相沉积（H...热丝化学气相沉积（Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD）拥有工艺成熟，设备简单等诸多优点，是工业上应用*多的金刚石薄膜制备方法之一。设计用于合成纳米金刚石涂层，CVD金刚石薄膜，微晶CVD金刚石涂层，石墨烯，碳纳米管（CNTs）和各种其他薄膜涂层
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近距离有机物蒸发镀膜...近距离有机物蒸发镀膜炉是一种双加热区快速热处理炉，具有11"外径的石英管。它是专为PVD或CSS(近距离升华)薄膜涂层3英寸直径或2"×2"。近距离蒸发镀膜炉采用两组卤素加热器(顶部和底部)，zui大加热速率20oC/s。两个30段精密温度控制器内置，精度为+/-1oC。包括RS485端口和控制软件，允许通过PC操作炉子和温度曲线记录。它是研究新一代太阳能电池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和钙钛矿太阳能电池。
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实验室锂电池卷对卷加...这种全自动卷绕涂布机主要用于实验室涂布液体或胶体膜。该设备采用无级变速电机**控制涂膜速度，从而达到使样品匀速前进而均匀涂膜的目的。刮刀采用全不锈钢材质，重量恒定，可提高涂膜的一致性和均匀性。该设备采用具有真空吸附功能的样品台，可以平稳的吸附样品。同时涂布机具有底部加热功能，加热温度可达120℃，在涂膜过程中实现烤胶功能，从而使膜迅速地干燥，方便收卷操作。
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透明亚克力匀胶机带滴...CY-SP4-D匀胶机经过小型化设计，整体采用铝合金结构，腔体选用透明亚克力，外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机，*高转速能达到8000转/秒；控制依靠按键和高亮液晶屏，除直接匀胶外还能预存匀胶曲线进行程控匀胶。本仪器在极大的减小了体积的前提下有效的保障了仪器性能和功能，十分适合实验室选购。
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PP腔体八英寸匀胶机本型号匀胶机经过小型化设计，整体采用铝合金结构，腔体选用PP工程材料，外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机，转速能达到10000转/分，有效的保障了成膜的均匀性。另外本仪器采用触控屏控制，可以预设匀胶曲线，大大简化了使用过程降低了学习成本，十分适合实验室选购。
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亚克力八英寸匀胶机本型号匀胶机经过小型化设计，整体采用铝合金结构，腔体选用透明亚克力，外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机，转速能达到10000转/分，有效的保障了成膜的均匀性。另外本仪器采用触控屏控制，可以预设匀胶曲线，大大简化了使用过程降低了学习成本，十分适合实验室选购。
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PE-HPCVD等离...PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积由一台双温区管式炉，一套钨丝蒸发源，一套等离子发生装置以及一套质量流量计组成。PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积适用于无机复合粉末的热处理及粉末表面的均匀包覆。
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薄膜沉积
在基片上沉积各种材料的薄膜是微纳加工的重要手段之一，主要方法有化学气相...[详情]
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